GC fue fundada por Kiyoshi Nakao, Yoshinosuke Enji y Tokuemon Mizuno

el 11 de febrero de 1921 en Tokio, Japón.

En 2021 celebramos

"100 años de Calidad en el Mundo Dental"

GC marked its 100th anniversary on February 11, 2021

PATTERN RESIN™ LS

PATTERN RESIN™ LS

PATTERN RESIN LS es una resina acrílica utilizada para la elaboración de modelos, cofias, postes, coronas telescópicas o cónicas, implantes y puentes. PATTERN RESIN LS se destaca por ser un acrílico de baja contracción para modelos de alta precisión y ajuste óptimo de restauraciones. Sus propiedades únicas, de fácil manejo, hace que sea apropiada para las técnicas de unión, implantes, galvanización y construcción de muñones.

Además de todas las indicaciones convencionales para el modelado de resinas, PATTERN RESIN LS proporciona resultados superiores en las siguientes aplicaciones: ataches personalizados, coronas cónicas y telescópicas, supraestructuras de implantes, técnicas de transferencia de implantes, técnicas para coronas y puentes, incrustaciones inlay y onlay, prótesis removibles parciales y técnica de electroformado.

Contracción mínima y fácil de recortar para una adaptación y reproducción perfectas. Dureza y resistencia elevadas. Gran estabilidad incluso en capas finas. No deja restos al quemarse, lo que proporciona superficies de colado muy limpias.